硅片气氛保护实验辊道炉 - 江苏前锦企业集团公司

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硅片气氛保护实验辊道炉

硅片气氛保护实验辊道炉

一、设备名称:硅片气氛保护实验辊道炉 二、设备用途:主要生产硅片(156x156x0.2mm)氧化性无尘生产实验 三、主要技术参数 3.1炉膛尺寸:1380500100(LWH)mm 3.2外形尺寸:198015001100(LWH)...
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  一、设备名称:硅片气氛保护实验辊道炉
 
  二、设备用途:主要生产硅片(156x156x0.2mm)氧化性无尘生产实验
 
  三、主要技术参数
 
  3.1炉膛尺寸:1380×500×100(L×W×H)mm
 
  3.2外形尺寸:1980×1500×1100(L×W×H)mm
 
  3.3额定温度:1300℃
 
  3.4工作温度:1000℃
 
  3.5控温精度:≤±2℃
 
  3.6炉内温差:≤±5℃
 
  3.7炉外温度:≤±40℃
 
  3.8控温组数:3温区3个控温表
 
  3.9工作速度:全窑按5min计算,400mm/min,
 
  3.10调速范围:120~700mm/min,
 
  3.11加热方式:电加热,炉内的上部安装
 
  3.12加热元件:硅碳棒,上部安装
 
  3.13加热功率:36 KW
 
  3.14保温功率:25KW
 
  3.15加热长度:1080mm
 
  3.16炉衬材质:整条设备炉内采用刚玉材质作为炉膛
 
  3.17保温材料:轻质保温砖和纤维棉
 
  3.18保温层次:底部330mm,两侧面各350mm,炉顶400mm
 
  3.19控制柜:独立全自动控制
 
  3.20设备结构:共1段
 
  3.21冷却方式:自然冷却
 
  3.22输送方式:45°斜齿轮传动
 
  3.23速度控制:无极变频控制
 
  3.24进气类别:氮气和氧气


 
硅片气氛保护实验辊道炉1硅片气氛保护实验辊道炉2


 
 
 
  以上参数和图片可作采购参考,可根据用户日产量需求定制各种规格尺寸,图为实物拍摄,图文仅供阅读,复制转载必究。
 
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